Az eszköz összesen 2,5 milliárd EUR összegű beruházással 700 millió EUR uniós finanszírozásban részesült, 700 millió EUR-t a nemzeti és regionális kormányoktól, a fennmaradó részt pedig az ASML-től és más ágazati partnerektől. A NanoIC fel fogja gyorsítani a mesterséges intelligencia, az önvezető járművek, az egészségügy és a 6G mobiltechnológia fejlesztéséhez elengedhetetlen következő generációs félvezető-technológia fejlesztését.
A NanoIC az első európai létesítmény, amely bevezeti a legfejlettebb Extreme Ultraviolet litográfiai gépet, amely két nanométernél nagyobb technológiát alkalmazó chipek tervezésére és gyártására összpontosít. Ez jelentős előrelépést jelent az európai félvezetőgyártási technológia terén.
Henna Virkkunen ügyvezető alelnök, Bart De Wever belga miniszterelnök és Matthias Diependaele flandriai miniszterelnök nyitotta meg a létesítményt, amely lehetővé teszi a kutatók és a vállalatok számára, hogy a tömeggyártás előtt közel ipari méretekben teszteljék az új csipterveket, berendezéseket és folyamatokat.
Olvassa el a teljes sajtóközleményt.
További információ
Last update
9 Február 2026