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Règlement européen sur les semi-conducteurs : La Commission publie des orientations sur la procédure de demande relative au statut d’installation de production intégrée et de fonderie ouverte de l’UE

La Commission a publié un projet d’orientations sur la procédure de demande pour les installations «pionnières» pour demander le statut d’installation de production intégrée et/ou de fonderie ouverte de l’UE, dans le cadre du deuxième pilier du règlement européen sur les semi-conducteurs.

European Chips Act: Commission publishes guidance on the application process for the status of integrated production facility and open EU foundry

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Les installations «pionnières» sont des installations de fabrication de semi-conducteurs nouvelles ou modernisées offrant une dimension d’innovation qui n’est pas encore présente sur le marché de l’UE. À ce jour, ces installations peuvent s’adresser à la Commission pour obtenir le statut d’ «installation de production intégrée» (IPF) ou de «fonderie ouverte de l’UE» (EEO), ce qui leur donne droit à des applications administratives rationalisées et à un accès prioritaire aux lignes pilotes.

Les entreprises qui sont ensuite reconnues comme ayant le statut d’IPF et d’EEO seront des contributeurs essentiels à la sécurité d’approvisionnement et à la résilience du secteur des semi-conducteurs de l’Union. En outre, en période de crise, la Commission peut demander aux IF ou aux FEO de donner la priorité à l’offre d’un ordre de produits pertinents en cas de crise.

Si la demande de statut d’IPF et d’EEO est une procédure distincte de l’évaluation initiale des aides d’État, ces deux procédures et les évaluations respectives sont interconnectées et menées, dans la mesure du possible, en parallèle par la Commission.

Le projet d’orientations publié par la Commission vise à aider les entreprises à naviguer dans le processus glissant de demande afin d’obtenir le statut d’IPF et d’EEO, à comprendre les critères d’éligibilité et à préparer les pièces justificatives nécessaires pour introduire une demande.

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